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Notiziario Marketpress di Mercoledì 03 Marzo 2010
 
   
  LA PUNTA CON STRUTTURA A DIAMANTE MIGLIORE TRA LE MIGLIORI

 
   
  Bruxelles, 3 marzo 2010 - Alcuni ricercatori tedeschi e statunitensi hanno creato una punta al carbonio estremamente affilata, resistente e resiliente che si è guadagnata il primo posto nel settore industriale. Messa a punto grazie ai finanziamenti dell´Ue, la punta con struttura a diamante presenta una resistenza all´usura - su nanoscala - 3000 volte superiore alla punta in ossido di silicio ed è pertanto ideale per l´atomic imaging, per la cosiddetta "probe-based data storage" e altre applicazioni emergenti. I risultati dello studio sono pubblicati nella rivista Nature Nanotechnology. La ricerca era parte del progetto Protem ("Probe-based terabit memory"), un progetto che ha ricevuto 5,3 milioni di euro in riferimento all´area tematica dedicata alle tecnologie della società dell´informazione del Sesto programma quadro (6° Pq). Hanno collaborato a questo studio il Centro di ricerca della Ibm, con sede a Zurigo, l´Università della Pennsylvania e l´Università del Wisconsin. Nell´articolo, gli autori scrivono che questa maggiore "comprensione dei fenomeni di attrito e usura a livello di nanoscala [la scala di grandezza che trova applicazione nelle nanotecnologie] è fondamentale per numerose applicazioni che prevedono lo scorrimento di componenti in nanoscala sopra una superficie". Tra queste applicazioni emergenti vi sono la nanolitografia, la nanometrologia e la nanoproduzione. Il Dlc (Diamond-like carbon, carbonio con struttura a diamante), come spiegano, è spesso usato - proprio in virtù della sua resistenza all´usura su macroscala - per il rivestimento delle superfici in alcuni tipi di applicazioni che richiedono coefficienti di attrito e usura ridotti. Fino ad oggi, il problema è sempre stato costituito dalla resilienza del materiale all´usura a livello di nanoscala, a causa della complessità insita nella produzione di strutture di carbonio con struttura a diamante con la precisione richiesta in nanoscala. Un´altra delle differenze principali tra macroscala e nanoscala è costituita dal fatto che in quest´ultima i difetti, le crepe e altre condizioni che regolano la resistenza del materiale e l´usura non hanno la stessa importanza. La nuova punta in nanoscala creata dai ricercatori presenta un tasso di usura significativamente più basso della punta in ossido di silicio (considerata finora l´avanguardia). Con un coefficiente pari a un atomo per micrometro di scorrimento su un substrato di diossido di silicio questo materiale ha stabilito un nuovo record. "[Questo materiale di carbonio con struttura a diamante] è noto per possedere un coefficiente di attrito basso in presenza di umidità e riteniamo, che su nanoscala, sia più resistente all´usura di tre ordini di magnitudo rispetto al silicio nelle stesse condizioni ambientali", concludono gli autori. La punta è costituita da carbonio, idrogeno, silicio e ossigeno: tutti combinati nell´estremità di un micro-cantilever in silicio (utilizzato nella microscopia atomica della forza). Invece che limitarsi a rivestire la punta con materiali resistenti all´usura, gli scienziati hanno sviluppato il materiale da zero. Per produrre le punte sul micro-cantilever in silicio hanno utilizzato una tecnica di saldatura e una tecnica di elaborazione di massa che consentirà la produzione commerciale su larga scala nel futuro. Per maggiori informazioni, visitare: Nature Nanotechnology: http://www.Nature.com/nnano/index.html  Progetto Protem: http://www.Protem-fp6.org/  Ibm Research-zurich: http://www.Zurich.ibm.com/    
   
 

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